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上海隱冠半導(dǎo)體技術(shù)有限公司

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產(chǎn)品中心詳情頁2
真空吸盤
真空吸盤
真空吸盤
主要特點(diǎn)

  • 高導(dǎo)熱性、低膨脹系數(shù) 
  • 良好的平面度
  • 高剛度,更優(yōu)異的耐磨性
  • 輕量化設(shè)計(jì)
  • 高純度,無金屬離子污染
  • 可根據(jù)用戶需求進(jìn)行結(jié)構(gòu)定制

產(chǎn)品資料下載
主要應(yīng)用

半導(dǎo)體量檢測(cè)設(shè)備,如膜厚測(cè)量,OCD 測(cè)量,形貌測(cè)量,缺陷檢測(cè)等

性能簡介

吸盤采用輕量化設(shè)計(jì),并采用和硅材料熱膨脹系數(shù)相近材料:無壓燒結(jié)碳化硅,滲硅碳化硅,氮化硅和氮化鋁等。吸盤具備高剛度,高導(dǎo)熱,低熱膨脹,穩(wěn)定性高等特點(diǎn),另外,還具備高純度,晶粒大小均勻等特性,如此可有效的減少Particle以及化學(xué)清洗的污染問題,延長使用壽命。

技術(shù)參數(shù)
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單位

數(shù)據(jù)

平面度

μm

0.5

適用規(guī)格

 

6/8' 12' 8/12'

表面特征

 

銷式,環(huán)式

Pin高度

mm

0.05-0.2

Pin直徑(最小)

mm

φ0.2

Pin間距(最小)

mm

3

密環(huán)寬度(最小)

mm

0.7

表面粗糙度

μm

Ra 0.02

厚度公差

mm

±0.01

直徑公差

mm

±0.01

平行度公差

μm

≤3

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