(圖片來源自網(wǎng)絡(luò))

在半導(dǎo)體制造業(yè)中，薄膜的厚度對(duì)器件的性能和質(zhì)量有重要影響。薄膜的厚度決定了許多重要的物理和化學(xué)性質(zhì)，對(duì)其折射、反射和透射的光學(xué)性質(zhì)有直接影響，可以導(dǎo)致顯著的量子尺寸效應(yīng)，從而改變材料的電子、光學(xué)和磁性等。準(zhǔn)確測(cè)量和控制薄膜厚度對(duì)于優(yōu)化器件性能、提高生產(chǎn)效率、確保器件可靠性等都具有重要的作用。

膜厚測(cè)量可以根據(jù)薄膜材料劃分為兩個(gè)基本類型，即不透明薄膜（金屬類）和透明薄膜。測(cè)量不透明薄膜厚度的方法通常是通過測(cè)量方塊電阻，通過其電阻與橫截面積得到其膜厚，采用的設(shè)備一般為四探針臺(tái)，將四根探針等距離放置，通過對(duì)最外兩根探針施加電流，從而測(cè)量其電勢(shì)差計(jì)算被測(cè)薄膜的方塊電阻。而透明薄膜則通?；跈E圓偏振技術(shù)，對(duì)光譜范圍內(nèi)的偏振變化進(jìn)行分析，各種薄膜層提供高精度薄膜測(cè)量。由于膜應(yīng)力、折射率等物理性質(zhì)同樣需要橢圓偏振及干涉技術(shù)進(jìn)行測(cè)量，因此目前主流的膜厚測(cè)量設(shè)備同時(shí)集成了應(yīng)力測(cè)量、折射率測(cè)量等功能。

圖1. 橢圓偏振測(cè)量原理示意圖（圖片來源自網(wǎng)絡(luò)）

針對(duì)晶圓膜厚測(cè)量設(shè)備，隱冠半導(dǎo)體可以提供尺寸極為緊湊的運(yùn)動(dòng)平臺(tái)解決方案，靈活且有效支撐客戶的集成式或者獨(dú)立式膜厚測(cè)量解決方案。該運(yùn)動(dòng)平臺(tái)采用創(chuàng)新性的雙軸耦合設(shè)計(jì)理念和獨(dú)特的大行程磁浮重力補(bǔ)償技術(shù)，降低了垂向電機(jī)的載荷，很大程度提高了垂向運(yùn)動(dòng)性能和壽命。此外，我們還提供配套的驅(qū)控系統(tǒng)和減振系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)高吞吐量的量測(cè)能力。隱冠半導(dǎo)體擁有覆蓋全國(guó)主要城市的售后團(tuán)隊(duì)，為您提供全方位的技術(shù)支持。