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干貨丨先進封裝設(shè)備
時間:2024.10.15 字號

封裝工藝設(shè)備:核心設(shè)備為減薄機、劃片機、固晶機、鍵合機、塑封機等以及前道圖形化設(shè)備。

減薄機:減薄指的是晶圓(正面已布好電路的硅片)在后續(xù)劃片之前需要進行背面減薄(Backside grinding),目前主要通過磨輪(砂輪)磨削晶圓背面,以降低封裝高度,減小芯片體積。標準的減薄流程如下圖所示。減薄機結(jié)構(gòu)主要包括粗磨(講究效率)&精磨(講究質(zhì)量)磨輪、成片臺、機械手、料籃等。晶圓吸附在承片臺上,通過粗磨、精磨工位上的磨輪進行減薄,減薄完成后,通過機械手將完成加工的晶圓傳輸?shù)搅匣@里,然后再把整個料籃拿到撕貼膜一體機上,去撕除貼在晶圓表面的保護膜,并粘貼上劃片膜,為后續(xù)劃切工藝做好準備。

劃片機:一個晶圓通常由幾百個至數(shù)千個 芯片連在一起。它們之間留有80um 至150um的間隙,此間隙被稱之為劃片街區(qū)(Saw Street);將每一個具有獨立電氣性能的芯片分離出來的過程叫做劃片或切割(Dicing Saw)??煞譃樯拜喦懈詈图す馇懈顑煞N方式。砂輪切割是目前應(yīng)用最為廣泛的一種劃片方式。主要采用金剛石顆粒和粘合劑組成的刀片,經(jīng)主軸聯(lián)動高速旋轉(zhuǎn),與被加工材料相互磨削,并以一定速度進給將晶圓逐刀分割成獨立芯片。在工藝過程因殘余應(yīng)力和機械損傷導(dǎo)致的崩裂等缺陷,是制約砂輪劃片發(fā)展的主要問題。

固晶機:也稱貼片機,將芯片從已經(jīng)切割好的晶圓(Wafer)上抓取下來,并安置在基板對應(yīng)的Die flag上,利用銀膠(Epoxy)把芯片和基板粘接起來。貼片機可高速、高精度地貼放元器件,并實現(xiàn)定位、對準、倒裝、連續(xù)貼裝等關(guān)鍵步驟。固晶機主要由點膠系統(tǒng)、物料傳輸系統(tǒng)、固晶系統(tǒng)、視覺系統(tǒng)組成。首先由點膠系統(tǒng)在封裝基板對應(yīng)位置上進行點膠,而后固晶系統(tǒng)與物料傳輸系統(tǒng)相互配合,從藍膜上精確地拾取芯片,準確地將芯片放置在封裝基板涂覆了粘合劑的位置上;接著對芯片施加壓力,在芯片與封裝基板之間形成厚度均勻的粘合劑層;在承載臺和物料傳輸系統(tǒng)的進給/夾持機構(gòu)上,分別需要一套視覺系統(tǒng)來完成芯片和封裝基板的定位,將芯片位置的精確信息傳遞給運動控制模塊,使運動控制模塊能夠在實時狀態(tài)下調(diào)整控制參數(shù),完成精確固晶。

鍵合機:鍵合(Bonding)是通過物理或化學(xué)的方法將兩片表面光滑且潔凈的晶圓貼合在一起,以輔助半導(dǎo)體制造工藝或者形成具有特定功能的異質(zhì)復(fù)合晶圓。鍵合技術(shù)有很多種,通常根據(jù)晶圓的目標種類可劃分為晶圓-晶圓鍵合(Wafer-to-Wafer,W2W)和芯片-晶圓鍵合(Die-to-Wafer,D2W);根據(jù)鍵合完成后是否需要解鍵合,又可分為臨時鍵合(Temporary Bonding)和永久鍵合(Permanant Bonding);根據(jù)待鍵合晶圓間是否引入輔助界面夾層,還可分為直接鍵合鍵合、間接鍵合、混合鍵合(Hybrid Bonding)等;根據(jù)傳統(tǒng)和先進與否,傳統(tǒng)方法包括引線鍵合(Wire Bonding),先進方法采用倒裝芯片鍵合(Flip Chip Bonding)、混合鍵合等。

塑封機:塑封機能夠?qū)⑿酒煽康胤庋b到一定的塑料外殼內(nèi),可分為轉(zhuǎn)注封裝與壓塑封裝,先進封裝背景下壓塑封裝為未來趨勢。轉(zhuǎn)注封裝成型主要用于含芯片的引線框架封裝成型,壓塑封裝成型主要用于大面積的晶圓或板級封裝成型,但兩者也有封裝產(chǎn)品的交集,如含芯片的框架或基板較大面積的封裝成型,如 100mmX300mm QFN或BGA封裝成型,所以兩種成型方式不是孤立的。但隨著生產(chǎn)效率越來越高、芯片小型化和扁平化的發(fā)展趨勢,壓塑封裝將是發(fā)展的方向。

前道圖形化設(shè)備:先進封裝與傳統(tǒng)封裝工藝流程最大的區(qū)別在于增加了前道圖形化的工序,主要包括PVD或CVD等薄膜沉積設(shè)備、涂膠顯影設(shè)備、光刻機、刻蝕機、電鍍機等。先進與傳統(tǒng)封裝均需要減薄機、劃片機、固晶機、塑封機、鍵合機等設(shè)備,與傳統(tǒng)封裝不同的是,先進封裝也需要晶圓制造的前道圖形化設(shè)備,如TSV需要硅刻蝕鉆孔、需要PVD來制作種子銅層,凸塊也需要涂膠顯影、光刻、刻蝕來制作更精細的間距。

 

本文轉(zhuǎn)載自:光學(xué)與半導(dǎo)體綜研

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