干貨丨芯片制造中的必備要素——真空
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2024-10-30
真空在半導(dǎo)體制造中非常重要,在半導(dǎo)體工業(yè)中,真空環(huán)境被用于各種制程,包括物理氣相沉積 (Physical Vapor Deposition, PVD)、化學(xué)氣相沉積 (Chemical Vapor Deposition, CVD)、原子層沉積 (Atomic Layer Deposition, ALD)、離子注入 (Ion Implantation)、等離子刻蝕 (Plasma Etching) 等等。那么今天就來(lái)介紹一下真空這個(gè)常見(jiàn)卻讓人一知半解的概念。