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上海隱冠半導(dǎo)體技術(shù)有限公司

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產(chǎn)品中心詳情頁2
MZM200磁浮重力補(bǔ)償垂向位移臺(tái)
MZM200磁浮重力補(bǔ)償垂向位移臺(tái)
MZM200磁浮重力補(bǔ)償垂向位移臺(tái)
主要特點(diǎn)

  • 高動(dòng)態(tài)響應(yīng)、非接觸直線電機(jī)驅(qū)動(dòng)
  • 高精度的光學(xué)式線性編碼器反饋 
  • 高剛性、高精度導(dǎo)向設(shè)計(jì)
  • 負(fù)載大、抗偏心能力高
  • 獨(dú)特的大行程磁浮重力補(bǔ)償技術(shù)
  • 全閉環(huán)伺服設(shè)計(jì)
  • 優(yōu)異的定位精度和動(dòng)態(tài)性能

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主要應(yīng)用

晶圓生產(chǎn)控制應(yīng)用,例如薄膜計(jì)量、關(guān)鍵尺寸檢查

 

性能簡介

磁浮重力補(bǔ)償垂向位移臺(tái)采用緊湊扁平的輪廓尺寸設(shè)計(jì)思想。垂向采用了大行程磁浮重力補(bǔ)償技術(shù),降低垂向電機(jī)的載荷,很大程度地提高垂向運(yùn)動(dòng)性能和壽命??蓪?shí)現(xiàn)高精度上下方向定位的升降,垂向可提供高剛度機(jī)械導(dǎo)軌和高性能氣浮導(dǎo)軌選項(xiàng),氣浮導(dǎo)軌可提供更高精度的雙向重復(fù)性能。

機(jī)械尺寸圖

*接口尺寸數(shù)據(jù)來源于MZM200,且垂向處于中間位

技術(shù)參數(shù)
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技術(shù)指標(biāo)

 單位

MZM200-10

行程

mm

10

最大速度

mm/s

100

加速度

m/s²

2

精度

μm

±0.5

雙向重復(fù)精度

μm

±0.2

位置穩(wěn)定性(3σ)

nm

±15

直線度

μm

2

俯仰

 

100µrad(21arcsec)

橫滾

 

100µrad(21arcsec)

偏擺

 

100µrad(21arcsec)

機(jī)械特征

 

 

驅(qū)動(dòng)負(fù)載(無負(fù)載)

Kg

1.8

最大負(fù)載

Kg

6.2

平臺(tái)質(zhì)量

Kg

3.5

外觀尺寸

mm×mm

S200×72

平臺(tái)材料

 

航空鋁,黑色陽極氧化

定制信息

在MZM200系列產(chǎn)品序列里,配置了可根據(jù)用戶實(shí)際應(yīng)用選擇的可選項(xiàng)??蛇x內(nèi)容包括行程、編碼器、導(dǎo)軌等選項(xiàng)。

表1行程選項(xiàng)

-5

5mm行程位移平臺(tái),配置音圈電機(jī)和限位

-10

10mm行程位移平臺(tái),配置音圈電機(jī)和限位

-25

25mm行程位移平臺(tái),配置音圈電機(jī)和限位

 

表2編碼器選項(xiàng)

-S1

增量式模擬光學(xué)式線性編碼器,1Vpp

-S2

增量式數(shù)字光學(xué)式線性編碼器,RS422

-S3

絕對(duì)式光學(xué)式線性編碼器,BISS

 

表3導(dǎo)軌選項(xiàng)

-Gl

高剛度機(jī)械導(dǎo)軌

-G2

高性能氣浮導(dǎo)軌

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